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碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的测定 二次离子质谱法 (GB/T 41153-2021)

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碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的测定  二次离子质谱法 (GB/T 41153-2021)

标准号GB/T 41153-2021状态

发布于:2021-12-31

实施于:2022-07-01

碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的测定 二次离子质谱法基本信息

标准号:GB/T 41153-2021

中国标准分类号:H17

国际标准分类号: 77.040     77 冶金 77.040 金属材料试验

归口单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会

执行单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会

主管部门:国家标准化管理委员会

国家标准《碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的测定 二次离子质谱法》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口上报,TC203SC2(全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会)执行,主管部门为国家标准化管理委员会。

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