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4H碳化硅衬底及外延层缺陷图谱 (T/CASAS 004.2-2018)

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4H碳化硅衬底及外延层缺陷图谱 (T/CASAS 004.2-2018)

标准号T/CASAS 004.2—2018状态

发布时间:2018年11月20日

实施时间:2018年11月20日

4H碳化硅衬底及外延层缺陷图谱基本信息

标准号:T/CASAS 004.2—2018

团体名称:中国标准化协会

主要技术内容:由于4H-SiC缺陷特别是4H-SiC外延缺陷与常见的其它半导体缺陷形状、类型、起因因外延生长模式的不同而有所不同或完全不同,而且目前尚未有适用的国家标准和行业标准,因此,为了规范4H-SiC缺陷术语和定义,特制定本标准。本标准由第三代半导体产业技术创新战略联盟标准化委员会(CASAS)制定发布,版权归CASA所有,未经CASA许可不得随意复制;其他机构采用本标准的技术内容制定标准需经CASA允许;任何单位或个人引用本标准的内容需指明本标准的标准号。

中国标准分类号:C398 电子元件及电子专用材料制造

国际标准分类号:31.080.01 半导体器分立件综合

发证机关:中华人民共和国民政部

行业分类:半导体器分立件综合

标准名称:4H碳化硅衬底及外延层缺陷图谱

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