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4H碳化硅衬底及外延层缺陷术语 (T/CASAS 004.1-2018)

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4H碳化硅衬底及外延层缺陷术语 (T/CASAS 004.1-2018)

标准号T/CASAS 004.1—2018状态

发布时间:2018年11月20日

实施时间:2018年11月20日

4H碳化硅衬底及外延层缺陷术语基本信息

标准号:T/CASAS 004.1—2018

团体名称:中国标准化协会

主要技术内容:由于4H-SiC缺陷特别是4H-SiC外延缺陷与常见的其它半导体缺陷形状、类型、起因因外延生长模式的不同而有所不同或完全不同,而且目前尚未有适用的国家标准和行业标准,因此,为了规范4H-SiC缺陷术语和定义,特制定本标准。

中国标准分类号:M731 自然科学研究和试验发展

国际标准分类号:31.080.01 半导体器分立件综合

发证机关:中华人民共和国民政部

行业分类:半导体器分立件综合

标准名称:4H碳化硅衬底及外延层缺陷术语

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