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硅片表面薄膜厚度的测试 光学反射法 (GB/T 40279-2021)

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硅片表面薄膜厚度的测试  光学反射法 (GB/T 40279-2021)

标准号GB/T 40279-2021状态

发布于:2021-08-20

实施于:2022-03-01

硅片表面薄膜厚度的测试 光学反射法基本信息

标准号:GB/T 40279-2021

中国标准分类号:H21

国际标准分类号: 77.040     77 冶金 77.040 金属材料试验

归口单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会

执行单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会

主管部门:国家标准化管理委员会

国家标准《硅片表面薄膜厚度的测试 光学反射法》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口上报,TC203SC2(全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会)执行,主管部门为国家标准化管理委员会。

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