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多晶硅用氯硅烷中杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法 (T/CNIA 0017-2019)

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多晶硅用氯硅烷中杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法 (T/CNIA 0017-2019)

标准号T/CNIA 0017-2019状态

发布时间:2019-02-13

实施时间:2019-06-01

多晶硅用氯硅烷中杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法

标准号:T/CNIA 0017-2019

标准名称:多晶硅用氯硅烷中杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法

团体名称:中国有色金属工业协会

中国标准分类号:H17

国际标准分类号:77.040.01

银波、邱艳梅、刘国霞、罗建文、谭忠芳、于生海、宗金平、宗凤云、孟凡江、张云晖

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本标准规定了多晶硅用氯硅烷中杂质(硼、磷、铁、钙、铝、铬、镍、铜、锌、钛、钾、钠)含量的电感耦合等离子体质谱测定方法。

本标准适用于多晶硅用氯硅烷中杂质(硼、磷、铁、钙、铝、铬、镍、铜、锌、钛、钾、钠)含量的测定,测定范围为0μg/L-1000μg/L。

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