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半导体抛光液用硅溶胶中杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法 (JC/T 2133-2012)

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半导体抛光液用硅溶胶中杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法 (JC/T 2133-2012)

标准号JC/T 2133-2012状态

发布于:2012-12-28

实施于:2013-06-01

半导体抛光液用硅溶胶中杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法

标准号:JC/T 2133-2012

中国标准分类号:C14

国际标准分类号:71.040

批准发布部门:工业和信息化部

行业分类:无

陈奕睿、屈海云 等

中国科学院上海硅酸盐研究所

本标准规定了采用电感耦合等离子体原子发射光谱(ICP-AES)法测定半导体抛光液用硅溶胶中杂质元素含量的方法。本标准适用于半导体化学机械抛光(CMP)中抛光液用的各种硅溶胶。

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