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光学晶体光学均匀性测量方法 (JB/T 9495.7-1999)

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光学晶体光学均匀性测量方法 (JB/T 9495.7-1999)

标准号JB/T 9495.7-1999状态

发布于:1999-08-06

实施于:2000-01-01

光学晶体光学均匀性测量方法

标准号:JB/T 9495.7-1999

中国标准分类号:N05

国际标准分类号:17.180%31.030

批准发布部门:国家机械工业局

行业分类:无

本标准适用于直径不大于200mm的光学晶体光学均匀性的测量。测量折射率微差的精度为:△η=±1×10^(-6)。

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