当前位置:规范网标准行业标准硅衬底中氮浓度的二次离子质谱测量方法 (SJ/T 11493-2015)

硅衬底中氮浓度的二次离子质谱测量方法 (SJ/T 11493-2015)

下载
免费下载 SJ/T 11493-2015

硅衬底中氮浓度的二次离子质谱测量方法 (SJ/T 11493-2015)

标准号SJ/T 11493-2015状态

发布于:2015-04-30

实施于:2015-10-01

硅衬底中氮浓度的二次离子质谱测量方法

标准号:SJ/T 11493-2015

中国标准分类号:H82

国际标准分类号:29.045

批准发布部门:工业和信息化部

行业分类:无

马农农、何友琴、何秀坤 等

信息产业专用材料质量监督检验中心、工业和信息化部电子工业标准化研究院、苏州晶瑞化学有限公司等

本标准规定了用二次离子质谱法(SIMS)对硅衬底单晶体材料中氮总浓度的测试方法。 本标准适用于锑、砷、磷的掺杂浓度<0.2%(1×10∧2at·cm-3)的单晶样品,其中氮的浓度大于等于1 ×10∧14 at·cm-3

声明:资源收集自网络或用户分享,仅供学习参考,使用请以正式版为准;如侵犯您的权益,请联系我们处理。

不能下载?报告错误