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硅片氧沉淀特性的测定 间隙氧含量减少法 (GB/T 19444-2004)

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硅片氧沉淀特性的测定  间隙氧含量减少法 (GB/T 19444-2004)

标准号GB/T 19444-2004状态

发布于:2004-02-05

实施于:2004-07-01

硅片氧沉淀特性的测定 间隙氧含量减少法基本信息

标准号:GB/T 19444-2004

中国标准分类号:H26

国际标准分类号: 29.040     29 电气工程 29.040 绝缘流体

归口单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会

执行单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会

主管部门:国家标准化管理委员会

国家标准《硅片氧沉淀特性的测定 间隙氧含量减少法》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口上报及执行,主管部门为国家标准化管理委员会。

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