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通过测量间隙氧含量的减少表征硅片氧沉淀特性的方法 (SJ/T 10627-1995)

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通过测量间隙氧含量的减少表征硅片氧沉淀特性的方法 (SJ/T 10627-1995)

标准号SJ/T 10627-1995状态

发布于:1995-04-22

实施于:1995-10-01

通过测量间隙氧含量的减少表征硅片氧沉淀特性的方法

标准号:SJ/T 10627-1995

中国标准分类号:H82

国际标准分类号:None

批准发布部门:电子工业部

行业分类:无

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