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电子束物理气相沉积用8YSZ陶瓷靶材 技术条件 (T/CSEA 26-2023)

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电子束物理气相沉积用8YSZ陶瓷靶材 技术条件 (T/CSEA 26-2023)

标准号T/CSEA 26-2023状态

发布日期:2023年02月07日

实施日期:2023年03月01日

电子束物理气相沉积用8YSZ陶瓷靶材 技术条件基本信息

标准编号:T/CSEA 26—2023

英文标题:Technical specification of 8YSZ target for Electron Beam Physical Vapor Deposition

国际标准分类号:25.220.01表面处理和镀涂综合

国民经济分类:C336 金属表面处理及热处理加工

起草人:何箐、邹晗、王世兴、王璐、彭徽。

起草单位:北京金轮坤天特种机械有限公司、中国航发沈阳黎明航空发动机有限责任公司、北京航空航天大学。

范围:本文件规定了采用化学共沉淀法、电熔法合成的高纯氧化钇部分稳定氧化锆(ZrO2(HfO2)-7~8 wt. %Y2O3)原材料所制备的陶瓷靶材的技术要求、质量保证,标志、包装、运输和贮存等。本文件适用于电子束物理气相沉积用8YSZ陶瓷靶材。

内容概括:表1 8YSZ陶瓷靶材成分及杂质含量化学成分/wt.%主成分含量 杂质含量Y2O3+ZrO2(HfO2) HfO2 Y2O3 Al2O3 Fe2O3 SiO2 ……

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