当前位置:规范网标准团体标准薄膜应力测定 基片弯曲法 (T/SZMES 3-2021)

薄膜应力测定 基片弯曲法 (T/SZMES 3-2021)

下载
免费下载 T/SZMES 3-2021

薄膜应力测定 基片弯曲法 (T/SZMES 3-2021)

标准号T/SZMES 3—2021状态

发布时间:2021年05月28日

实施时间:2021年06月01日

薄膜应力测定 基片弯曲法基本信息

标准号:T/SZMES 3—2021

团体名称:中国标准化协会

主要技术内容:本文件规定了一种基于基片弯曲法的薄膜应力测定的术语和定义,包括:基片、薄膜、试样、厚度、镀膜、物理气相沉积技术、曲率半径。测量原理:测量基片在单面镀膜前后的曲率半径,基片初始曲率半径和基片(镀膜面)曲率半径,利用斯东尼(Stoney)公式,计算得出薄膜应力。

中国标准分类号:C336 金属表面处理及热处理加工

国际标准分类号:25.220.01 表面处理和镀涂综合

发证机关:中华人民共和国民政部

行业分类:表面处理和镀涂综合

标准名称:薄膜应力测定 基片弯曲法

本文件规定了基于基片弯曲法的薄膜应力测定的术语和定义、测量原理、测量仪器、试样要求、测量条件、参数的确定、测量、薄膜应力计算及试验报告。本文件适用于基于基片弯曲法的薄膜应力测定。

声明:资源收集自网络或用户分享,仅供学习参考,使用请以正式版为准;如侵犯您的权益,请联系我们处理。

不能下载?报告错误