标准号YS/T 719-2009状态
发布于：2009-12-04
实施于：2010-06-01
平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶
标准号：YS/T 719-2009
中国标准分类号：H63
国际标准分类号：77.150.99
批准发布部门：工业和信息化部
行业分类：无
李智超、杨太礼 等
利达光电股份有限公司
本标准规定了平面磁控溅射光学薄膜用硅靶材的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及订货单（或合同）内容。本标准适用于平面磁控溅射光学薄膜用硅靶材。
发布于：2009-12-04
实施于：2010-06-01
标准号：YS/T 719-2009
中国标准分类号：H63
国际标准分类号：77.150.99
批准发布部门：工业和信息化部
行业分类：无
李智超、杨太礼 等
利达光电股份有限公司
本标准规定了平面磁控溅射光学薄膜用硅靶材的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及订货单（或合同）内容。本标准适用于平面磁控溅射光学薄膜用硅靶材。
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