标准号GB/T 25188-2010状态
发布于：2010-09-26
实施于：2011-08-01
硅晶片表面超薄氧化硅层厚度的测量 X射线光电子能谱法基本信息
标准号：GB/T 25188-2010
中国标准分类号：G04
国际标准分类号： 71.040.40 71 化工技术 71.040 分析化学 71.040.40 化学分析
归口单位：全国微束分析标准化技术委员会
执行单位：全国微束分析标准化技术委员会
主管部门：国家标准化管理委员会
国家标准《硅晶片表面超薄氧化硅层厚度的测量 X射线光电子能谱法》由TC38（全国微束分析标准化技术委员会）归口上报及执行，主管部门为国家标准化管理委员会。