激光化学气相沉积技术在掩模版修复中的应用黄#1048577;河1,朱#1048577;晓1*,朱长虹1,朱广志1,李跃松2,张#1048577;沛2,万承华2(1.华中科技大学激光工程研究院,武汉430074;2.清溢精密光电有限公司,深圳518000)摘要:为了对光掩模版亮场缺陷进行修补,采用激光化学气相沉积的方法,利用功率密度为1.3#1048578;108W/cm2的355nm紫外激光诱导Cr(CO)6分解,在1.5s内获得了光掩模亮场区域附着力强、消光比高的金属Cr膜。结果表明,在开放的环境下,采用高功率密度、短作用时间的方法能够得到高质量的沉积薄膜,满足了微电子行业中对掩模版修复的要求。关键词:激光技术;光化学;光掩模修复;激光化学气相沉积;开放式