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光致抗蚀干膜用聚酯基膜 (T/CPPIA 34-2024)

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光致抗蚀干膜用聚酯基膜 (T/CPPIA 34-2024)

标准号T/CPPIA 34-2024状态

发布日期:2024年01月25日

实施日期:2024年02月01日

光致抗蚀干膜用聚酯基膜基本信息

标准编号:T/CPPIA 34—2024

英文标题:Polyester base film for photoresist dry film

国际标准分类号:83.140.10薄膜和薄板

中国标准分类号:G33

国民经济分类:C292 塑料制品业

起草人:叶世强、孟凡、毛广源、胡爱娟、袁文新、刘俊萍、陈正坚、郭凤刚、张文闯

起草单位:富维薄膜(山东)有限公司、常州钟恒新材料股份有限公司、杭州和顺科技股份有限公司、康辉新材料科技有限公司

范围:本文件规定了光致抗蚀干膜用聚酯基膜(以下简称“基膜”)的术语和定义、要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输及贮存。适用于以聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂为主要原料,添加适量母料,经熔融挤出、双向拉伸工艺制成的用于光致抗蚀干膜用途的聚酯薄膜的生产、检验和销售。

内容概括:4 要求4.1 外观4.1.1膜卷膜卷应收卷整齐、松紧一致,无接头、跑边、皱筋、划伤、切口毛边、油污及任何影响适用性的缺陷。4.1.2表面缺陷表面缺陷应符合表1……

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