标准号T/CSTM 01199-2024状态
发布日期：2024年01月05日
实施日期：2024年04月05日
多层金属薄膜 层结构测量分析方法 X射线光电子能谱基本信息
标准编号：T/CSTM 01199—2024
英文标题：Multilayer metal film-Measurement and analysis method of layer structure-X-ray photoelectron spectroscopy
国际标准分类号：29.045
中国标准分类号：H80
国民经济分类：M745 质检技术服务
起草人：范燕、卓尚军、严楷、王双、李林清、王海、杨秋，江柯敏、刘海全、谭晓逸、谭军、白敬胜。
起草单位：季华实验室、中国科学院上海硅酸盐研究所、广东工业大学、中国计量科学研究院、宁波新材料测试评价中心有限公司、中材新材料研究院（广州）有限公司。
范围：本文件规定了X射线光电子能谱仪（XPS）深度剖析测量多层金属薄膜层结构的分析方法。本文件适用于70 nm~240 nm深度内纳米尺度多层金属薄膜层成分、化学态、膜厚的表征。
内容概括：本文件规定了X射线光电子能谱仪（XPS）深度剖析测量多层金属薄膜层结构的分析方法。本文件适用于70nm~240nm深度内纳米尺度多层金属薄膜层成分、化学态、膜厚……