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硅外延用四氯化硅中杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法 (T/CNIA 0061-2020)

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硅外延用四氯化硅中杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法 (T/CNIA 0061-2020)

标准号T/CNIA 0061-2020状态

发布时间:2020-05-27

实施时间:2020-08-01

硅外延用四氯化硅中杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法

标准号:T/CNIA 0061-2020

标准名称:硅外延用四氯化硅中杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法

团体名称:中国有色金属工业协会

中国标准分类号:H17

国际标准分类号:77.040.01

严大洲、万烨、赵雄、楚东旭、刘凤华、蔡延国、邱艳梅、赵娟龙

洛阳中硅高科技有限公司、亚洲硅业(青海)股份有限公司、新特能源股份有限公司、新疆协鑫新能源材料科技有限公司

本标准规定了用电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS)测定硅外延用四氯化硅中硼、钠、镁、铝、钾、钙、磷、钛、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、锌、镓、砷、铅元素含量的方法。

本标准适用于硅外延用四氯化硅中硼、钠、镁、铝、钾、钙、磷、钛、钒、铬、锰、铁、钻、镍、铜、锌、镓、砷、铅元素含量的测定。各元素测定下限为0.01ng/g。

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