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化工装置自控工程设计规定 (下) 自控专业工程设计文件深度的规定 (HG/T 20638-1998)

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化工装置自控工程设计规定 (下) 自控专业工程设计文件深度的规定 (HG/T 20638-1998)

标准号HG/T 20638-1998状态

发布于:1998-06-22

实施于:1999年1月1日

化工装置自控工程设计规定 (下) 自控专业工程设计文件深度的规定基本信息

标准号:HG/T 20638-1998

标准名称:化工装置自控工程设计规定 (下) 自控专业工程设计文件深度的规定

发布部门:国家石油和化学工业局

起草单位:中国成达化学工程公司等

《化工装置自控工程设计规定》(上、下册)(HG/T 20636~20639)是根据原化学工业部建设协调司(1996)化建标发90号文“1996年设计基础工作计划”的任务,由全国化工自动控制设计技术中心站(原化学工业部自动控制设计技术中心站)组织,为推行国际通用设计体制和方法,总结国内外自控工程设计经验,与国际接轨而编写的。

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