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电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材 (YS/T 1025-2015)

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电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材 (YS/T 1025-2015)

标准号YS/T 1025-2015状态

发布于:2015-04-30

实施于:2015-10-01

电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材

标准号:YS/T 1025-2015

中国标准分类号:H63

国际标准分类号:77.150.99

批准发布部门:工业和信息化部

行业分类:制造业

姚力军、王学泽、丁照崇等

宁波江丰电子材料股份有限公司、有研亿金新材料有限公司、北京天龙钨钼科技股份有限公司等

本标准适用于电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材,以下简称高纯钨及钨合金靶。

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