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微束分析 透射电子显微术 集成电路芯片中功能薄膜层厚度的测定方法 (GB/T 43748-2024)

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微束分析  透射电子显微术 集成电路芯片中功能薄膜层厚度的测定方法 (GB/T 43748-2024)

标准号GB/T 43748-2024状态

发布于:2024-03-15

实施于:2024-10-01

微束分析 透射电子显微术 集成电路芯片中功能薄膜层厚度的测定方法基本信息

标准号:GB/T 43748-2024

标准类别:方法

中国标准分类号:N 33

国际标准分类号: 71.040.40 71 化工技术,71.040 分析化学,71.040.40 化学分析

归口单位:全国微束分析标准化技术委员会

执行单位:全国微束分析标准化技术委员会

主管部门:国家标准化管理委员会

国家标准《微束分析 透射电子显微术 集成电路芯片中功能薄膜层厚度的测定方法》由TC38(全国微束分析标准化技术委员会)归口上报及执行,主管部门为国家标准化管理委员会。

主要起草单位 广东省科学院工业分析检测中心、南方科技大学、胜科纳米(苏州)股份有限公司。

主要起草人 伍超群 、于洪宇 、乔明胜 、陈文龙 、周鹏 、邱杨 、黄晋华 、汪青 、程鑫 。

微束分析 透射电子显微术 集成电路芯片中功能薄膜层厚度的测定方法 (GB/T 43748-2024)

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